產品中心
Product CenternanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統是可以實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。
nanoArch P140 10μm精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術(PμSL)構建,并融入了摩方自主開發的多項技術。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術,這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用,使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間,并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。
3D打印內窺鏡服務 為全球客戶提供打印力學超材料、三維復雜仿生結構、生物醫療器件、微機械結構、微流控樣件等科研加工服務,以及連接器、內窺鏡、接插件等工業加工服務。