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                  咨詢熱線

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                  光固化3D打印

                  簡要描述:光固化3D打印是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術,是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。

                  • 產品型號:
                  • 廠商性質:生產廠家
                  • 更新時間:2023-11-20
                  • 訪  問  量:1360

                  詳細介紹

                  品牌摩方精密應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,制藥
                  光學精度2μm打印材料光敏樹脂
                  打印層厚5-20μm最大打印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
                  光源UV?LED(405nm)

                  一、光固化3D打印產品介紹

                  設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術,該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。




                  二、光固化3D打印基本參數

                  光源:UV-LED(405nm)

                  打印材料:硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

                  光學精度:2μm

                  打印層厚:5-20μm

                  打印尺寸:

                  ①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)

                  ②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

                  ③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重復陣列模式)

                  文件格式:STL

                  系統外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

                  重量:550kg

                  電氣要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW


                  三、應用領域

                  nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域。

                  作為微納3D打印行業,在三維復雜結構微納加工領域,BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗,針對客戶在項目研究中可能出現的工藝和材料難題,我們將持續提供簡易高效的技術支持方案。


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