高精密增材制造3D打印是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。

微納增材制造精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。

高精密3D打印系統采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術和數字微流控芯片。擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚，具備優良的光源穩定性，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。

nanoArch S130 2μm高精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建，并融入了摩方自主開發的多項技術。

microArch S240---3D打印連接器應用參數： 最小壁厚0.1mm，最小間距0.14mm； 快速打印精密結構，可實現小批量快速驗證。