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nanoArch P150 25μm高精密3D打印系統是科研級3D打印系統,擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚,具備優良的光源穩定性,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
nanoArch P140 10μm精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術,是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。